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纯净水设备处理水后的用处

    理论水又称理想水,即不含任何杂质的水,这样的水是不存在的。纯净水设备的工作人员了解到,随着近年来科技的不断发展,各行业对纯水的水质要求也不断提高,以前将电阻率作为唯一衡量水质纯度的做法已远远不能满足要求了,人们开始对水中阴离子含量、阳离子舍量、颗粒数、有机物和细菌等逐步有了定量的指标和限制。

    纯净水设备在20世纪70年代中期,微粒、细菌、二氧化硅、钠和总有机碳的这五项指标的确定,才确保了集成电路加工用水的质量。进入到了80年代,由于集成度的进一步提高,对于纯水的水质要求尤其就是微粒、细菌更加的严格,在此基础上又增加了溶解氰的限制指标。

    纯净水设备水质参数是一种能反映水的使用性质的量。通常的水质参数有水温、色度、透明度、悬浮固体、电导率、pH质、硬度、碱度、总矿化度、总盐量等;鼋金属类参数为铁、锰、汞、镉、铬、铜、铅、锌等;有机污染参数为酚、氰和油类等;无机污染参数为氮氮、硫酸盐、磷酸盐、硝酸盐和卤化物等。纯净水设备中水质标准是用水对象包括饮用和工业用水对象等)所要求的各项水质参数应达到的指标和限值。

    电子工业巾,单晶硅片、半导体元器件、印刷电路、集成电路等的生产过程都离不开纯水和高纯水,尤其是大规模或超大规模集成电路的制造,其生产过程中80%都需要用超纯水来清洗硅片,水中的微量杂质就会导致器件性能的下降乃至报废。纯净水设备的工作人员了解到,随着集成电路集成度的进一步提高,对水中污染物种类和含量的要求越来越严格,纯净水设备的工作人员了解到,20世纪60年代的末期,美国Ⅱ家公司提出的集戍电路用纯水的水质指标,以及后来80年代美国材料试验学会( ASTM)逐年公布的电子级水质标准,均已不能适应当代大规模集成电路迅速发展的需要。

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